透射电子显微镜术制备简介
透射电子显微镜术 (TEM) 是一种显微镜技术，其中电子束可穿过超薄样品，在透过样品的同时与样品产生相互作用。
超薄试样
通常，样品含有一个直径为 3.0 mm 的制备材料盘，以便其部分材料盘可以足够薄以使电子束可以完全穿透样品。
最大许可厚度视样品组成元素（原子数较大的元素穿透性较差）以及射束加速电压（较高的加速电压有助于提高射束穿透力）而定，但一般厚度在一百到几百纳米之间。
试样通过各种方法打薄，包括：
- 机械切割和研磨（用于样品初步制备步骤中）
- 电解液抛光（通常用于金属的最终打薄）
- 离子铣削（用于金属和绝缘材料）。
必须在后续电解抛光或离子铣销过程中，彻底去除初始机械制备过程中引入的任何损伤层。
当研磨盘中心附近出现第一个孔时，可停止最终打磨操作，然后立即停止电解抛光或离子铣销处理。
此时，孔附近材料的锥形部分通常已足够薄，足以让电子束穿透。如果执行电解抛光或离子铣销的时间过长，将去除孔附近电子可穿透的薄片部分，而剩余材料可能会过厚，使得电子束无法穿透。
如何制备适用于透射电子显微镜术的样品
机械切削和抛光
必须将样品切削为一小块，通过研磨和/或抛光到一定厚度，通常为几百微米。
可使用 Struers 生产的切削机完成切削过程。建议使用 Accutom-10/-100 或 Secotom-15/-50 等精密切削机。可使用 Struers 生产的任何研磨或抛光机；建议使用适用于单个样品或手动制备的机器，例如 LaboSystem 或 Tegramin。将样品研磨和/或抛光到一定厚度。也可使用配有特殊 TEM 制备插件的 AccuStop 或 AccuStop-T。
电解抛光
使用配有预打薄固定夹的 LectroPol-5 或 TenuPol-5 进行电解抛光，可将样品预打薄为所需厚度。
在最后的制备阶段，可使用 TenuPol-5 等电解抛光机实现所需的高精度、敏感抛光。TenuPol-5 使用直径为 3 或 2.3 mm 的样品，只需几分钟的时间便可制备用于透射电子显微镜术的有孔样品。
TenuPol-5 旨在用于自动电解打薄样品，以便使用透射电子显微镜执行检查。使用特殊样品夹，可将直径为 12 ‑ 21 mm 的基本材料预打薄到 0.5 mm 以内的厚度（区域直径不超过 10 mm）。
电解液
Struers 可供应适用于绝大多数常用材料的电解液，例如：
